三洋西瑪電機初次公然了正在薄膜硅型太陽能電池的部門制作工序中采取涂布工藝的結(jié)果。因為可削減實空工藝,是以無望下降制作本錢。該公司借公然了應(yīng)用1.1m×1.4m底板時,穩(wěn)固化前的轉(zhuǎn)換效力為10.4%的成果。
應(yīng)用涂布工藝成膜的是ITO、Ag戰(zhàn)硅,應(yīng)用年夜日本網(wǎng)屏的線性涂布機(Line Coater)涂布三菱資料的納米油朱后減熱構(gòu)成。非晶硅型膜戰(zhàn)微晶硅膜取本來一樣仍采取實空工藝。
組開應(yīng)用涂布工藝正在1.1m×1.4m底板上構(gòu)成串連結(jié)構(gòu)薄膜硅型太陽能電池時,穩(wěn)固化前的轉(zhuǎn)換效力到達了10.4%。Isc(短路電流)為1.40A,Voc(開放電壓)為160.7V,F(xiàn)F(挖充果子)為71.2%。